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【预告】钩深讲坛:电子束光刻纳米加工技术在基础研究和工程建设中的应用

更新时间:2024-04-24, 作者:, 浏览人数:10

讲座题目:电子束光刻纳米加工技术在基础研究和工程建设中的应用

讲座时间:424日上午10:30

讲座地点:格律楼101会议室

主 讲 人:陈宜方教授

报告内容:

电子束光刻纳米加工技术的兴起与发展极大的推动了各个科学领域的基础研究,也为一系列重大工程项目提供了先进制造方法。复旦大学响应国家在自上而下的纳米光刻与制造技术上的短板和重大需求,瞄准国际先进水平和未来发展趋势,充分利用“复旦大学微纳科技平台”拥有的国际先进的、完整的现代化加工设备和条件,建立起了具有国际水平的纳米加工工艺基础。目前正在将这个工艺技术应用到纳米电子器件(HEMTs)、纳米光电子器件及红外焦平面芯片、纳米光子学(包括可见光波段的超表面材料、高分辨聚焦、光场调控、纳米仿生学)和X射线光学部件的研制和一系列国家重大工程建设等领域,取得了一批科研成果。这个报告将首先介绍复旦大学在电子束光刻纳米工艺研发上的成果,然后向大家简要介绍在上述各个领域的应用研究进展。

主讲人简历:

陈宜方,凝聚态物理学博士(牛津大学,1995年),教授,博士生导师。自1990年起,先后在英国牛津大学凝聚态物理系(1991年荣获最优秀博士生奖)、国际著名的荷兰戴尔福特理工大学量子输运组(1994-96)、新加坡南洋理工大学微电子中心(1996-97)、英国格拉斯哥大学詹姆斯.瓦特纳米技术中心(1997-2002)、英国卢瑟福阿普尔顿国家实验室(2003-2012)长期从事电子束光刻纳米加工与应用的基础研究。曾经担任英国卢瑟福实验室(MNTC中心)纳米科技首席科学家,瑞士洛桑理工学院(EPFL)访问教授(2010)和英国国家物理实验室(NPL)的高级访问研究员等职(2014-2019)。2012年归国至今,从事纳米加工在高电子迁移率晶体管、新型红外焦平面光电芯片、红外偏振探测器焦平面、超表面材料光场调控及其应用和X射线关键光学部件的研制。发表相关科技SCI论文160余篇,获得国内专利10项。他是Elsevier出版社Microelectronics Engineering期刊副主编、全国微光刻技术分会委员、九三学社科学普及委员会委员,欧洲研究理事会(ERC)远程评审专家等。


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